企業情報学会発表

2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会	2020年9月8日～11日 [11a-Z10-3] 高純度オゾンを用いた低温ALD Al2O3膜の性質
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会	2020年3月12日～15日 [13p-A409-11] 高純度オゾンとTMAを用いた室温ALD法により成膜したAl2O3膜の水蒸気透過率 [15a-A305-4] 高純度オゾン及びエチレンとTMAによる低温ALD成膜のXPS分析
薄膜技術実践セミナーⅤ	2020年1月22日『高純度オゾンガスとエチレンガスを使った低温 CVD ・ ALD プロセス』
2019年日本表面真空学会学術講演会	2019年10月28日～30日 [1Da05] 高純度オゾンとエチレンガスを用いた低温ALD 成膜手法で作製したAl2O3 薄膜の膜質
2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会	2019年9月18日～21日 [19p-E305-3] 室温OER-CVDで成膜したSiO2膜におけるプロセス条件の影響
2019年第66回応用物理学会春季学術講演会	2019年3月9日～12日 [11p-S222-7] 高純度オゾン由来の活性種を用いたAl2O3 バリア膜の室温ALD 成膜
2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会	2018年9月18日～21日 [21a-145-3] 高純度オゾン由来の活性種を用いた室温CVD-SiO2膜の特性

研究紹介論文

Phys. Rev. Lett. 125, 147001	『Superconductivity in Uniquely Strained RuO2 Films』
2020 IEEE 70th Electronic Components and Technology Conference(ECTC)	『Low-temperature multichip-to-wafer 3D integration based on via-last TSV with OER-TEOS-CVD and microbump bonding without solder extrusion』
Phys. Rev. B 101, 035107	『Characterization of Sr2RuO4 Josephson junctions made of epitaxial films』
2019 International 3D Systems Integration Conference(3DIC)	『Impacts of Deposition Temperature and Annealing Condition on Ozone-Ethylene Radical Generation-TEOS-CVD SiO2 for Low-Temperature TSV Liner Formation』
2018年日本表面真空学会学術講演会特集号II	『高純度オゾンガスとエチレンガス由来の活性種を用いた新たな低温成膜法』
APL Materials 5, 106108 (2017)	『Molecular beam epitaxy growth of superconducting Sr2RuO4 films』
Scientific Reports volume 6, Article number: 26598 (2016)	MgZnO/ZnO heterostructures with electron mobility exceeding 1?×?106?cm2/Vs