製品情報高純度・高濃度オゾンガス発生装置 ピュアオゾンジェネレータ
純度≒100%の高純度・高濃度オゾンガスを安全に連続して生成できる装置です。
製品特長
明電ピュアオゾンジェネレータは、オゾンを液化・蓄積し、連続で高純度・高濃度オゾンガスを供給する装置です。重金属フリーで高純度のため、半導体プロセス用の酸素ラジカル発生源としても使用可能です。また、安全性・信頼性に関しても「高純度・減圧にして危険な反応をさせない」という思想のもと、下記の通り安全な装置設計をしています。
- 非常時のための防爆設計
- 停電、異常時はフェールセーフシステムにより温度/圧力制御
- 停電時の緊急パージ機構
- オゾン爆発防止のため冷凍機の動作を維持する機能
- 万一、オゾン爆発が生じた場合でも、外部機器への機械的ダメージを発生させない構造
- 規格認証:国際安全規格 SEMI-S2、UL、NFPA、CEなどに準拠
- 品質保証:第三者認証機関によるトレーサガステストにより、ガス漏れに対する安全性を実証
用途・ソリューション
基材(フィルム・樹脂等)への成膜(常温成膜技術)
- フィルムへの室温レベルでの膜形成
高機能フィルム等の熱に弱い素材に対しても、フィルムに熱・プラズマダメージを与えることなく、常温での成膜が可能です。
半導体プロセスにおけるアッシング(ピュアオゾン・エチレン技術)
高イオン注入レジストが付いたシリコン基板へのアッシングも、ポッピングを起こすことなく処理することが可能です。
- 高イオン注入後のアッシング(レジスト除去)
仕様一覧
仕様・外形図についてはカタログをご覧ください。
適用分野
分野 | 用途 | 適用技術 | 期待効果 |
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環境 | 水処理 | •ピュアオゾン処理 | 殺菌、脱臭 |
リサイクル |
炭素繊維分解 |
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医療 | 新薬製造 (バイオテク) |
•ピュアオゾン処理 | 有機合成 |
フィルム | 有機膜 | •低温成膜 •ピュアオゾン・エチレン |
低温薄膜・バリア性 |
有機EL | 除去・密着・薄膜 | ||
食品包装・医療機器 | 殺菌/バリア性 | ||
太陽電池 | バリア性 | ||
材料 | 電極部材 | •ピュアオゾン・エチレン | 酸化膜 |
カーボン・ ナノチューブ |
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半導体 | マスク製造工程 | •ピュアオゾン処理 •ピュアオゾン・エチレン |
除去 |
前工程 | 酸化膜・除去 |
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先端技術 | MEMS | •ピュアオゾン・エチレン | 洗浄・改質 |
分子線エピタキシー (MBE) |
•ピュアオゾン処理 |
純粋酸化源 | |
プリンテッド・ エレクトロニクス |
•低温成膜 |
改質・密着・低温薄膜 |
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