製品情報高純度・高濃度オゾンガス発生装置 ピュアオゾンジェネレータ
純度≒100%の高純度・高濃度オゾンガスを安全に連続して生成できる装置です。
製品特長
明電ピュアオゾンジェネレータは、オゾンを液化・蓄積し、連続で高純度・高濃度オゾンガスを供給する装置です。重金属フリーで高純度のため、半導体プロセス用の酸素ラジカル発生源としても使用可能です。また、安全性・信頼性に関しても「高純度・減圧にして危険な反応をさせない」という思想のもと、下記の通り安全な装置設計をしています。
- 非常時のための防爆設計
- 停電、異常時はフェールセーフシステムにより温度／圧力制御
- 停電時の緊急パージ機構
- オゾン爆発防止のため冷凍機の動作を維持する機能
- 万一、オゾン爆発が生じた場合でも、外部機器への機械的ダメージを発生させない構造
- 規格認証：国際安全規格 SEMI-S2、UL、NFPA、CEなどに準拠
- 品質保証：第三者認証機関によるトレーサガステストにより、ガス漏れに対する安全性を実証
用途・ソリューション
基材（フィルム・樹脂等）への成膜（常温成膜技術）
- フィルムへの室温レベルでの膜形成
高機能フィルム等の熱に弱い素材に対しても、フィルムに熱・プラズマダメージを与えることなく、常温での成膜が可能です。
半導体プロセスにおけるアッシング（ピュアオゾン・エチレン技術）
高イオン注入レジストが付いたシリコン基板へのアッシングも、ポッピングを起こすことなく処理することが可能です。
- 高イオン注入後のアッシング（レジスト除去）
仕様一覧
仕様・外形図についてはカタログをご覧ください。
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