ピュアオゾンの活性をALDへ応用したPO-ALDでは、常温で立体物への均一な成膜を可能にし、ウエハーの25枚一括バッチ処理や光学レンズやリチウムイオン電池への応用も期待されています。

当社独自の装置構成、ガス導入制御により
■ピュアオゾンの超長寿命（10秒以上）を活用し、低温（200℃以下）で生産性の高い処理を実現します。

The PO-ALD (batch processing) technology has enabled uniform deposition on three-dimensional-shaped materials at lower than 200?C. Potential appreciations are optical devices, Display(FPD), memory, MEMS, and so on.