OER(ピュアオゾンとエチレンを用いたラジカル発生)技術について
当社独自の研究により
■高濃度ピュアオゾンとエチレンを混合する事で高活性なOHジカルの発生に成功
■ピュアオゾンとエチレンの圧力比を最適化することで、OHラジカル発生量の最大化が可能
Our patented Ozone-Ethylene Radical (OER) process generates large amount of OH radicals effectively at room temperature by optimized mixtures of ethylene and high purity ozone.
常温で、表面改質/洗浄（有機物除去）/成膜（酸化膜形成）が可能
シャワーヘッドでガスを基板に吹付けるため、均一な処理が可能
シャワーヘッドの特長
- 寿命は10-6秒であるOHラジカルを処理基板上にしっかり届け、OHラジカルの効率的な使用が可能
- OER成膜技術はシャワーヘッドを用いたガス流のため、制御系を変更するだけでALD/CVDに対応可能
- 同時ガスが流れているため、処理時間が短い
- ALD/CVDどちらの成膜も可能とし超薄膜から厚膜まで幅広い(数nm～1μm)成膜コントロールが可能
- OER技術はプリカーサ（ソースガス）の効率的な反応ができる為、側壁の付プリカーサの効率的使用ができ、側壁の付着物を膜内に巻き込む可能性がないので、チャンバー内の汚損の極小化が可能
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