パルス電源とは、マイクロ秒やナノ秒という短時間の瞬間的な大電力を出力する装置です。当社のパルス電源は、コンデンサ充電器と、半導体スイッチ＋磁気パルス圧縮回路方式（可飽和リアクトル）によるパルス発生回路で構成されており、高精度で安定的な高繰り返し運転が可能です。
また、出力パルス電圧を高精度で出力（ばらつきを当社従来比の40分の1に低減）、時間軸ゆらぎ(ジッタ)を極小で出力(当社従来比の55分の1に低減)できます。　エネルギー回生回路を設けることにより、装置効率を向上させます。

• 数10kV以上の高電圧をナノ秒（ns）レベルの急峻な立ち上がりで供給
• 高精度な出力パルス波形
• 長寿命（長期間安定したパルス出力を供給）
• 1,000台以上の納入実績

実験用パルス電源を開発しました。

• パルス発生ユニットと充電器ユニットを一体化し、質量を従来比9分の1に低減しました。
• 直流電源を介し、AC100V電源からの電源供給が可能です。
• 数十ナノ（ns）の急峻な立ち上がりで供給します。

エキシマレーザ

紫外域の波長（KrF：248nm、ArF：193nmなど）で発振する大出力高効率レーザであり、半導体リソグラフィに使われています。エキシマレーザではレーザガスを瞬間的に励起する必要があり、極めて短パルスで出力できる電源が必要となっています。
<写真：エキシマレーザ外観>
ギガフォトン（株）様のエキシマレーザ装置の外観です。装置内に当社のパルス電源が2台搭載されています。

使われているパルス電源の特長

• 繰り返し周波数：6kHz以下
• 出力電圧：-30kV以下
• 出力平均電力：15kW級
• 出力パルス幅：100ns以下

EUV光源用パルス電源

次世代の最有力リソグラフィ光源として、波長13.5nmの極端紫外線EUV（Extreme Ultraviolet）の研究開発が行われています。当社のパルス電源は放電を用いてEUVを発生させるDPP（Discharge Produced Plasma）方式の研究に使われています。EUV光源は、更なる高出力化が求められており、パルス電源にも高出力化が求められています。
当社は10kHzで動作できるパルス電源を2台で並列交互運転することにより、最大で20kHzの繰り返し運転ができるパルス電源を開発し、NEDO委託研究プロジェクト「極端紫外線（EUV）露光システムの基盤技術開発」の受託先である技術研究組合EUVA様に納入しました。
<写真(上)：EUVA様の実験用EUV光源システム>
<写真(中)：パルス発生ユニット>
<写真(下)：充電器>

使われているパルス電源の特長

• 繰り返し周波数：20kHz以下
• 出力電圧：数kV以下
• 出力平均電力：200kW
• 出力パルス幅：5µs

アオコ増殖防止装置用パルス電源

パルスパワーを用いると、気体中に限らず水中でも放電を起こすことができます。水中パルス放電の応用例として、アオコ増殖防止装置があります。アオコは夏季に湖沼や池などで大量発生して水質汚染を引き起こすため、水中パルス放電による衝撃波でアオコ細胞内部の気泡を破壊して処理します。水中で放電を発生させるためには、急峻な電圧立ち上がりが必要であり、且つ処理量を増やすために大きな放電エネルギーが必要です。
当社は水上で安定的な高電圧・大電流のパルスパワーを出力することができるパルス電源を開発し、（株）荏原製作所様に納入しました。
<写真：アオコ増殖防止装置外観>
（株）荏原製作所様のアオコ増殖防止装置の外観です。処理船中央付近に当社のパルス電源が2台搭載されています。

使われているパルス電源の特長

• 繰り返し周波数：40Hz以下
• 出力電圧：120kV以下
• 出力エネルギー：40J/pulse
• 出力パルス幅：2µs